Maska o bio strukturze wykonana ze Śnieżnego grzyba z kwasem hialuronowym, peptydem PAL-GHK oraz witaminami (C, E) o wyjątkowych właściwościach wyciszających i ochronnych, redukuje łuszczenie i objawy suchości. Bezwłókninowa, mocno odporna na deformacje, gotowa do użycia. Idealna maska dla skór dysfunkcyjnych z zaburzoną barierą lipidową i objawami suchości oraz jako wsparcie pielęgnacyjne kuracji dermatologicznych (atopia, egzema, łuszczyca, skóra diabetyków).
SKLADNIKI AKTYWNE:
- Tremella Fuciformis - działa nawilżająco , naturalny polimer pozyskiwany z grzyba śnieżnego, działa przeciwzapalnie i łagodząco , zmniejsza TEWL, przyspiesza regenerację skóry ,
- Palmitoyl tripeptide-1 - peptyd sygnałowy, stymuluje produkcję kolagenu, spłycenie zmarszczek, lifting ,
- Kwas hialuronowy - głęboko nawilża, jest biostymulatorem
DLA KOGO:
Skóra sucha i łuszcząca się, po zabiegach złuszczających, cera zmęczona, pozbawiona lasku, skóra dysfunkcyjna z zaburzoną barierą hydrolipidową, skóra z tzw. zmarszczkami smutku, marionetki i zmarszczka marszczyciela. Wsparcie skór z egzemą, łuszczycą czy atopią, polecane podczas leczenia onkologicznego, dla diabetyków i osób z zaburzeniami pracy tarczycy. Dla niej i niego.
KORZYŚCI:
- skóra silnie nawilżona i zregenerowana
- skóra gładsza i miękka w dotyku
- skóra elastyczna dobrze odżywiona
SPOSÓB UŻYCIA: Nałożyć Arkana Snow Fungus Mask na twarz na 20-30 min. Po tym czasie maskę usunąć.